Clean & Green Hi Technology

半導体

Chemical Dispense System


Introduction

  • 半導体やLCD作業に使用されるChemicalを供給する設備でChemical DrumまたはTank LorryからStorage Tankに保存してSupply Tankに移送してN₂加圧やPumpingでP.O.Uに供給

Application

  • 前工程Chemicalの供給

Supply Method

  • Pumping Supply
  • N₂ Pressure Supply

Chemical Blending System

Introduction

  • ChemicalとDIWをBatch方式でBlendingするSystem。
  • Mixing Tankを利用してBlendingを実施後、Storage TankまたはSupply Tankに供給。
  • Heat Exchanger 適用。

Application

  • DSP (Dilute Sulfuric Peroxide) : HF, H₂0₂, H₂SO₄, DIW
  • SC-1 (Standard Cleaning) : H₂0₂, H₂SO₄, DIW

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • Batch
  • In-line

Developer Dilution (Nagase OEM)

Introduction

  • DeveloperとDIWをBatchまたはIn-line方式でBlendingするSystem。
  • Mixing Tankを利用してBlendingを実施後、Storage TankまたはSupply Tankに供給。
  • Mixing TankとStorage Tank間の連結されている連通管配管を利用して自由落下方式で移送して濃度Huntingが少ない。

Application

  • Developer Dilution

Concentration Spec

  • TMAH    2.380 ± 0.003 wt%

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation

NH₄OH, HF Dilution

Introduction

  • NH₄OH またはHFとDIWをIn-line 方式でBlendingするSystem。
  • Mixing Tankを利用して Blendingを実施後、Storage Tankまたは Supply Tankに供給。
  • Mixing TankとStorage Tank間の連結されている連通管配管を利用して自由落下方式で移送して濃度Huntingが少ない。

Application

  • NH₄OH Dilution
  • HF Dilution

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation