Clean & Green Hi Technology

半导体

Chemical Dispense System


Introduction

  • 用于半导体与LCD工艺的化学供给设备。 由Chemical Drum 或 Tank Lorry 储存在 Storage Tank后 传送到Supply Tank 用于 N₂ 加压及 Pumping后 供给 P.O.U

Application

  • 前段工艺 Chemical 供给设备

Supply Method

  • Pumping Supply
  • N₂ Pressure Supply

Chemical Blending System

Introduction

  • 用于Chemical与 DIW Batch的方式 Blending System.
  • 使用Mixing Tank Blending后, 供给Storage Tank 或 Supply Tank
  • Heat Exchanger 使用

Application

  • DSP (Dilute Sulfuric Peroxide) : HF, H₂0₂, H₂SO₄, DIW
  • SC-1 (Standard Cleaning) : H₂0₂, H₂SO₄, DIW

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • Batch
  • In-line

Developer Dilution (Nagase OEM)

Introduction

  • 使用Developer与 DIW Batch 或 In-line的方式 Blending System.
  • 使用Mixing Tank Blending后, 供应给Storage Tank 或 Supply Tank.
  • 使用Mixing Tank与 Storage Tank 之间的 连通管 利用 自由坠落方式减少浓度 Hunting

Application

  • Developer Dilution

Concentration Spec

  • TMAH    2.380 ± 0.003 wt%

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation

NH₄OH, HF Dilution

Introduction

  • 使用NH₄OH 或 HF与 DIW In-line 的方式 Blending System.
  • 使用Mixing Tank Blending后, 供应给Storage Tank 或 Supply Tank.
  • 使用Mixing Tank与 Storage Tank 之间的 连通管 利用 自由坠落方式减少浓度 Hunting.

Application

  • NH₄OH Dilution
  • HF Dilution

Supply Method

  • Pumping
  • N₂ Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation