Clean & Green Hi Technology

반도체

Chemical Dispense System


Introduction

  • 반도체 및 LCD 공정에 사용되는 Chemical을 공급하는 설비로 Chemical Drum 또는 Tank Lorry로부터 Storage Tank에 저장 후 Supply Tank로 이송하여 N2 가압 및 Pumping으로 P.O.U 에 공급

Application

  • 전 공정 Chemical 공급

Supply Method

  • Pumping Supply
  • N₂ Pressure Supply

Chemical Blending System

Introduction

  • Chemical과 DIW를 Batch 방식으로 Blending하는 System.
  • Mixing Tank 이용하여 Blending을 실시 후, Storage Tank 또는 Supply Tank로 공급.
  • Heat Exchanger 적용

Application

  • DSP (Dilute Sulfuric Peroxide) : HF, H₂0₂, H₂SO₄, DIW
  • SC-1 (Standard Cleaning) : H₂0₂, H₂SO₄, DIW

Supply Method

  • Pumping
  • N2 Pressure Supply

Blending Method

  • Batch
  • In-line

Developer Dilution (Nagase DEM)

Introduction

  • Developer와 DIW를 Batch 또는 In-line 방식으로 Blending하는 System.
  • Mixing Tank 이용하여 Blending을 실시 후, Storage Tank 또는 Supply Tank로 공급.
  • Mixing Tank와 Storage Tank간 연결되어있는 연통관 배관을 이용하여 자유낙하 방식으로 이송하여 농도 Hunting이 적음.

Application

  • Developer Dilution

Concentration Spec

  • TMAH    2.380 ± 0.003 wt%

Supply Method

  • Pumping
  • N2 Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation

NH₄OH, HF Dilution

Introduction

  • NH4OH 또는 HF와 DIW를 In-line 방식으로 Blending하는 System.
  • Mixing Tank 이용하여 Blending을 실시 후, Storage Tank 또는 Supply Tank로 공급.
  • Mixing Tank와 Storage Tank간 연결되어있는 연통관 배관을 이용하여 자유낙하 방식으로 이송하여 농도 Hunting이 적음.

Application

  • NH₄OH Dilution
  • HF Dilution

Supply Method

  • Pumping
  • N2 Pressure Supply

Blending Method

  • In-Line Mixing Module & Pumping Circulation